1959年
ステップ・アンド・リピートカメラ
〜装置・材料／リソグラフィ〜
1959年、Fairchild Semiconductorによってプレーナープロセス型の集積回路を発明された[1]。ここでFairchildのJay LastとRobert Noyceは、ウェーハ上のフォトレジスト[2]に集積回路チップのパターンを繰り返し転写するステップ・アンド・リピートカメラを製作した。これによって、一枚のシリコンウェーハに同一チップを多数形成する集積回路製造の基本方式が確立した。このステップ・アンド・リピートカメラの基本原理をベースにして、1961年にGCAのDavid W. Mann部門からフォトマスク製造に用いるフォトリピーター[3]が販売されるようになった。さらに1978年、このフォトリピータ―の原理を用いた縮小投影露光装置[4]が開発され、現在のフォトリソグラフィへと展開することになった。
[参考文献]
[1] 半導体歴史館：1959年：プレーナ型ICの発明（Robert
Noyce、米国 Fairchild）
[2] 半導体歴史館：1950年代：ネガ型フォトレジスト
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