1950年代 後半
ネガ型フォトレジスト
〜装置・材料／リソグラフィ〜
最初のフォトリソグラフィは、1955年、ベル研究所(Bell Telephone Laboratories)で開発された。Jules
AndrusとWalter L. Bondが、シリコンウェーハ上の酸化膜を開口してn型、p型の不純物拡散層を形成するために、プリント基板形成の写真製版技術を応用してフォトレジストで微細で精確なマスクを形成したものである。
このフォトレジストにEastman KodakのKPR(Kodak Photoresist)が使われた。KPRは新聞の写真印刷製版用として1950年に開発されたが、プリントばん基板形成や半導体微細加工に応用された。環状ゴムをベースとして感光材を添加したものである[1]。
プレーナープロセスから集積回路技術へと発展して行くひとつの契機となった。
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