パターンジェネレータ

1968年

パターンジェネレーター

～装置・材料／リソグラフィ～

集積回路(IC)が微細化・高集積化され、さらに多品種に展開されるとともに、リソグラフィに用いるフォトマスク製造に人手によるアートワーク制作^[1]が困難になった。1968年、GCAはパターンを自動生成してフォトリピーターにかけるレチクルを製作するパターンジェネレーター(1600PG)を開発、販売した。開閉と回転可能なアパーチャーによって任意の矩形パターンを生成し、レチクル乾板上に1/10に縮小投影露光し、さらにXYステージを高速移動させて一個ずつ矩形パターンを分割露光して回路図形を描画する装置である。アパーチャーの大きさとXYステージの位置はコンピュータ制御された。これによってコンタクト露光^[2]やプロジェクション露光^[3]用のフォトマスク製造に用いるレチクル製作効率が飛躍的に向上した。

【参考文献】
[1] 半導体歴史館：1960年代：フォトマスク製造用縮小カメラ
[2] 半導体歴史館：1960年代：コンタクト露光装置
[3] 半導体歴史館：1970年代：プロキシミティ露光装置およびプロジェクション露光装置

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