1950年代
超純水
〜装置・材料／エッチ・洗浄・研磨〜
高純度化が要求されるトランジスタや集積回路(IC)の製造では、超純水による洗浄が不可欠となった。超純水はゴミを濾過した後に、
イオン交換法で純化するのが一般的である。イオン交換樹脂は1935年に発明され、1938年にはIG・ファルベン(ドイツ)によって工業化された。現在主流となっている
スチレン系(スチレン・ジ・ビニルベンゼン)イオン交換樹脂は、1944年にGEで開発された。Rohm and Hass Company(現在はDow
Chemical)などがイオン交換樹脂を製造販売する ようになった。日本では1946年に三菱化学がイオン交換樹脂を製品化、オルガノが純水製造装置の販売を開始した(1950年)。1950年代に始まる本格的な半導体産業を支える
超純水製造の工業化が確立された。
[関連展示]
[1] 半導体歴史館：1970年代：RCA洗浄
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Ver.002/ 2019/12/18