日本半導体イノベーション５０選 （Ｔ-２ １９６０年代）
フォトレジストの国産化
1960年代の半導体デバイス製作にはコダック(米)のネガ型フォトレジストKPRが独占的使われていたが、東京応化は国内で初めてネガ型フォトレジストOMR-81の開発に成功、1968年に製造販売を開始し、国内の多くの半導体メーカーに採用された。1972年には国産初のポジ型フォトレジストOFPR-2の開発に成功、これを改良した1979年発売のOFPR-800はシップレイ(米)のAZ-1350にかわって、64K DRAM製造でほとんどのDRAMメーカーが採用し、デファクトスタンダードの位置を確立した。その後、JSR(当時日本合成ゴム)、信越化学、富士フィルム（当時富士写真フィルム）等が参入し、今日では世界のフォトレジスト需要の70%以上を日本メーカーが供給し、世界の半導体産業を支えている。
| フォトレジスト |
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| （ 東京応化HPより) (C)TOKYO OHKA KOGYO CO.,LTD |