SEMIジャパン関連記事
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| タイトル | 執筆者(敬称略） | 号数 | 発行年月 | 掲載ページ |
|---|---|---|---|---|
| 半導体露光装置（株）ニコン | 諏訪 恭一 | 3 | 2003年5-6月 | 20-21 |
| 縦型装置（株）日立国際電気 | 黒河 治重 | 4 | 2003年7-8月 | 20-21 |
| コータ・デイベロッパ－（MARK V)東京エレクトロン九州（株） | 木村 義雄 | 5 | 2003年9-10月 | 18-19 |
| 洗浄装置大日本スクリーン製造（株） | 大神 信敏 | 6 | 2003年11-12月 | 16-17 |
| ダイサ（株）ディスコ | 関家 一馬 | 1 | 2004年1-2月 | 22-23 |
| メタル用マイクロ波エッチング装置（株）日立ハイテクノロジーズ | 川崎 義直 | 2 | 2004年3-4月 | 18-19 |
| プローバ東京エレクトロン（株） | 井上 準一 | 3 | 2004年5-6月 | 20-21 |
| イオン注入装置日新イオン機器（株） | 松田 耕自 | 4 | 2004年7-8月 | 20-21 |
| ポジ型フォトレジスト東京応化工業（株） | 浅海 慎五 | 5 | 2004年9-10月 | 16-17 |
| ３００ミリ シリコンウエーハ三菱住友シリコン（株） | 京極 哲朗 | 6 | 2004年11-12月 | 18-19 |
| 特殊ガスジャパンファインプロダクツ（株） | 秦 裕一 | 1 | 2005年1-2月 | 24-25 |
| ウエハー搬送ロボットタツモ（株） | 仕田原 仁志 | 2 | 2005年3-4月 | 16-17 |
| クリーン環境の創造三機工業（株） | 長谷川 勉 | 3 | 2005年5-6月 | 20-21 |
| マスクブランクスHOYA（株） | 流川 治 | 4 | 2005年7-8月 | 24-25 |
| プローブカード日本電子材料（株） | 古崎 新一郎 | 5 | 2005年9-10月 | 20-21 |
| DRAM酸化膜エッチング装置の開発東京エレクトロンAT（株） | 田原 好文 | 6 | 2005年11-12月 | 24-25 |
| 集積化ガスシステム（株）フジキン | 山路 宮治雄 | 1 | 2006年1-2月 | 24-25 |
| MEMS用シリコン深堀りエッチング装置の開発住友精密工業（株） | 神永 晉 | 2 | 2006年3-4月 | 20-21 |
| 半導体封止材料住友ベークライト（株） | 筧 允男 | 3 | 2006年5-6月 | 18-19 |
| 大型ガラス基板用レジストコータ大日本スクリーン製造（株） | 木瀬 一夫 | 4 | 2006年7-8月 | 24-25 |
| 産業用超小型放射光源「AURORA」（株）SEN(旧住友イートンノバ） | 高橋 令幸 | 5 | 2006年9-10月 | 22-23 |
| 液晶用レジスト塗布装置東京応化工業（株） | 佐合 宏仁 | 6 | 2006年11-12月 | 24-25 |
| 縦型SiGeエピタキシャル成長装置開発の道のり（株）日立国際電気 | 国井 泰夫 | 1 | 2007年1-2月 | 28-29 |
| 半導体工場水処理のクローズドシステム栗田工業（株） | 中川 隆生 | 2 | 2007年3-4月 | 32-33 |
| デバイス配線微細化とPVD成膜技術の競争（株）アルバック | 豊田 聡 | 3 | 2007年5-6月 | 24-25 |
| マルチチャンバプラズマCVD装置の開発と背景サムコ（株） | 立田 利明 | 4 | 2007年7-8月 | 22-23 |
| スパッタ成膜中の欠陥低減（材料メーカーのアプローチ）日鉱金属（株） | 大橋 建夫 | 5 | 2007年9-10月 | 24-25 |
| 分析業務における短納期の実現（株）住化分析センター | 長谷川 幹男 | 6 | 2007年11-12月 | 24-25 |
| 電熱式半導体プロセス排ガス除害装置開発の歴史カンケンテクノ（株） | 今村 啓志 | 1 | 2008年1-2月 | 24-25 |
| 全反射蛍光X線分析装置の開発（株）テクノス | 西萩 一夫 | 2 | 2008年3-4月 | 20-21 |
| シリコンメサトランジスタから（１００）結晶面特許へ（株）日立製作所 | 大野 稔 | 5 | 2008年9-10月 | 24-25 |
| LDD発明物語松下電器産業（株） | 江崎 豪彌 | 6 | 2008年11-12月 | 24-25 |
| 高エネルギーイオン注入三菱電機（株） | 塚本 克博 | 1 | 2009年 | 28-29 |
| NANDフラッシュメモリ（株）東芝 | 中根 正義 | 2 | 2009年 | 24-25 |
| HEMT（高電子移動度トランジスタ）富士通（株） | 三村 高志 | 3 | 2009年 | 24-25 |
| DZIGシリコンウェーハ（株）日本電気 | 津屋 英樹 | 4 | 2009年 | 20-21 |
| MoSi位相シフトマスクへの道のり三菱電機（株） | 渡壁 弥一郎 | 1 | 2010年 | 20-21 |
| １M DRAM（株）東芝 | 齋藤 昇三 | 2 | 2010年 | 22-23 |
| CCDイメージセンサソニー（株） | 越智 成之 | 3 | 2010年 | 24-25 |
| IGBT （Insulated Gate Bipolar Transistor：絶縁ゲート型バイポーラトランジスタ)（株）東芝 |
秀島 誠 | 4 | 2010年 | 24-25 |
| 液晶ディスプレイシャープ（株） | 石井 裕 | 1 | 2011年 | 16-17 |
| 東北大学ウェーハレベルパッケージングによるMEMS | 江刺 正喜 | 2 | 2011年 | 16-17 |
| CDSEM (Critical Dimension Scanning Electron Microscope)（株）日立製作所 |
佐藤 貢 | 3 | 2011年 | 18-19 |
| ?フラッシュメモリ搭載マイコン（株）日立製作所 | 牧本 次生 | 4 | 2011年 | 18-19 |
| 半導体用電子ビームマスク描画装置（株）ニューフレアテクノロジー | 滝川 忠宏 | 1 | 2012年 | 20-21 |
| ウエーハ・レベル・バーンイン技術の開発松下電器産業（株） | 中田 義朗 | 2 | 2012年 | 18-19 |
| 低消費電力SHシリーズマイコン（株）日立製作所 | 馬場 志朗 | 3 | 2012年 | 18-19 |
| Cell Broadband Engine（株）東芝 | 斎藤 光男 | 4 | 2012年 | 16-17 |
| Si-MOSFETを用いた 移動体通信用高周波モジュール（Si-MOSモジュール）（株）日立製作所 |
吉田 功 | 1 | 2013年 | 20-21 |
| ArFレジスト材料-成長と創出-（株）日本電気 | 長谷川 悦雄 | 2 | 2013年 | 16-17 |
開発秘話 コーヒーブレーク
| タイトル | 執筆者(敬称略） | 号数 | 発行年月 | 掲載ページ |
|---|---|---|---|---|
| 海外から見た日本の半導体技術開発スタンフォード大学 | 西 義雄 | 2 | 2009年 | 26 |
| 日米半導体戦争半導体シニア協会 | 牧本 次生 | 2 | 2010年 | 24 |
| ものづくり日本の姿を思う東京大学 | 小川 紘一 | 4 | 2010年 | 26 |
| 宇宙を旅し世界に羽ばたくTRON東京大学 | 坂村 健 | 2 | 2011年 | 18 |
| キルビー特許訴訟電気通信大学 | 井桁 貞一 | 4 | 2011年 | 20 |
| 日米の狭間から見た光景と長い旅元KLA-Tencor/現Molecular Imprints | 溝上 祐夫 | 2 | 2012年 | 20 |